C1 C2 Yapıştırıcılarında MP2050 Yapışma Dayanımı

MP2050, minimum film oluşum sıcaklığı +3 °C olan çok amaçlı bir VAE tozudur. C1 veya C2 yapıştırıcıdaki işi söylemesi kolay, kısaltması zordur: harç ile karo arasındaki arayüz boyunca sürekli bir polimer film oluşturmak.

Önce Film Oluşumu

Redispersibl bir toz, ancak karışım suyunda redispersiyonlandıktan ve harç içinde yeniden kuruduktan sonra iş görür. MP2050 hızla redispersiyonlanır; böylece polimer, mikserin dibinde topak hâlinde kalmak yerine karıştırma çevriminde erken kullanılabilir olur.

Harç suyunu kaybettiğinde polimer parçacıkları birleşerek çimento hidratlarını ve zemini köprüleyen bir film oluşturur. +3 °C'de bu film hâlâ oluşur; bu ürünün en sıcak ayların dışında yapıştırıcı uygulayan şantiyelerde kullanılmasının nedeni budur.

Dozaj ve Yapışma

C1 formülasyonlarının çoğu kuru harç ağırlığı üzerinden %1–2, C2 formülasyonlarının çoğu %2–3 polimer içerir. Bu bandın üzerinde çekme yapışması kazanımları düzleşirken ton maliyeti yükselmeye devam eder; bu yüzden faydalı soru, sizin dolgu ve çimento seviyenizde eğrinin nerede büküldüğüdür.

EN 12004, C1 yapıştırıcılarda en az 0.5 N/mm2, C2 yapıştırıcılarda en az 1.0 N/mm2 çekme yapışması ister; testler kuru, ıslak ve ısı yaşlandırması sonrası yapılır. Bu değerleri hareket ettiren kaldıraç polimer dozajıdır, ancak dozajın kendini gösterebilmesini su ihtiyacı ve kür koşulları belirler.

Zemin Etkileri

Çimento sıvası veya alçıpan gibi emici bir zeminde harç suyunu hızla kaybeder. Polimer filmi erken oluşur ve bu erken dayanıma yardımcı olur; ama aynı emme, harç fazla kıvamlı karıştırıldıysa arayüzü susuz bırakabilir.

Kür edilmiş şap veya mevcut karo gibi yoğun bir zeminde karo boyunca su çıkmaz. Yapıştırıcı yalnızca derz tarafından kurur; bu yüzden açık kalma süresi ve kapsama dozajdan daha önemlidir.