Kemampuan Redispersi dan Kekuatan MP2100

MP2100 adalah bubuk VAE dengan suhu pembentukan film minimum +3 °C dan nilai kadar abu 10,5 ± 1,5 persen. Properti pembedanya adalah seberapa cepat ia kembali menjadi dispersi.

Redispersi dalam Praktik

Bubuk yang terdispersi ulang lambat meninggalkan partikel tak terdispersi di dalam campuran. Partikel itu menjadi titik lemah pada film setelah mortar mengering.

MP2100 terdispersi cukup cepat sehingga polimernya tersebar merata pada akhir siklus pencampuran standar. Perekat lapis tipis paling banyak memperoleh manfaatnya, karena lapisannya tipis dan tidak ada ruang untuk titik lemah.

Kohesi dan Kekuatan

Mortar lapis tipis membutuhkan kohesi lebih daripada kekuatan curah. Perekat harus tetap di trowel, mempertahankan geriginya, dan tetap membasahi keramik saat ditekan.

Kadar polimer dalam MP2100 mendukung kohesi itu pada dosis 1 hingga 3 persen, dan di situlah sebagian besar formulasi lapis tipis dibangun.

Stabilitas Beku-Leleh

Perekat yang dikirim ke pasar dingin diuji setelah siklus beku-leleh. Film yang terdispersi baik menoleransi siklus itu lebih baik daripada film yang tidak merata, karena lebih sedikit tempat bagi es untuk mulai.

Stabilitas itu berasal dari mutu dispersinya, bukan dari dosisnya saja, dan itulah sebabnya dua grade pada dosis yang sama dapat berperilaku berbeda pada uji yang sama.